半導體行業為什么離不開超純水設備？半導體行業的發展程度是衡量一個國家科技發展水平的核心指標。發展半導體產業，必然少不了電子芯片的生產制造。制造芯片的過程十分復雜，關鍵的步驟是沉積、光刻膠涂覆、刻蝕、離子注入和封裝。而這些步驟都離不開超純水，因為芯片生產過程需要超純水進行清洗。

        芯片生產過程中需要用的工藝清洗用水，得用幾近絕緣的水質，被稱作超純水，出水電阻率達到18Ω .cm左右。除電阻率，半導體生產用水對如微粒子、 TOC、溶解氧等指標也會有相應要求。那么指標要求這么高的超純水是如何制備出來的呢？自然界中不存在超純水，要制備這種超純水，就需要將自然水通過合適工藝處理而成。

      半導體超純水設備并不只是一種固定工藝系統，而是很多水處理工藝模塊的靈活組合~包括預處理過濾部分、RO反滲透技術、EDI連續電解除鹽技術和拋光混床工藝等。

工藝流程主要包括：

水源進水 —— 原水儲水箱  ——  多介質過濾器 —— 活性炭過濾器 —— 阻垢裝置 —— 5 微米精密過 濾器 —— 雙級反滲透純水機組 —— 反滲透產水儲水箱 —— EDI 超純水制水 機組 —— 超純水產水儲水箱 

（可根據行業生產要求，還會配置拋光混床，中間水箱等，根據客戶需求來定制方案）